"Forbes": Samsung Galaxy S5 ma poważną lukę bezpieczeństwa
Samsung Galaxy S5 ma lukę, która może prowadzić do przechwycenia przez cyberprzestępców kopii danych dotyczących odcisków palców użytkownika smartfona - wynika z badania firmy FireEye opublikowanego przez magazyn "Forbes". Samsung podkreśla, że bada sprawę.
"Forbes" przypomina, że dane na temat odcisków palców użytkownika Galaxy S5 przechowywane są w "bezpiecznych strefach" urządzenia. Jednak zdaniem przedstawicieli firmy zajmującej się bezpieczeństwem cybernetycznym istnieje możliwość przechwycenia tych danych w momencie skanowania palca przez czytnik telefonu.
"Jeżeli hakerowi uda się złamać rdzeń (zabezpieczeń), mimo że nie może dostać się do informacji na temat odcisków w tzw. bezpiecznej strefie, może nadal bezpośrednio sczytywać dane z czytnika. Za każdym razem kiedy użytkownik dotyka czytnika linii papilarnych, haker może je przechwycić" - powiedział magazynowi "Forbes" jeden z analityków FireEye.
W raporcie zwrócono uwagę, że Galaxy S5 nie jest jedynym urządzeniem mającym tę lukę. Sprawa dotyczy jeszcze jednego smartfona z systemem operacyjnym Android, jednak jego nazwy nie ujawniono. FireEye podkreśla jednak, że problem nie dotyczy telefonów z systemem Android 5.0 Lollipop.
W rozmowie z magazynem przedstawiciele południowokoreańskiego koncernu zapewnili, że "traktują kwestię prywatności i bezpieczeństwa swoich klientów bardzo poważnie" i badają doniesienia firmy FireEye.(PAP)
Zobacz także
"Startup Weekend Toruń 2015"
2015-05-17, 10:01W Toruniu ponad 120 pasjonatów nowych technologii, grafików, programistów, osób zainteresowanych biznesem w Internecie stara się przekuć swoje pomysły w produkty, który będzie można sprzedać na rynku. Czytaj dalej »
Aplikacja App of Cards analizuje obecność w sieci kandydatów na prezydenta
2015-05-13, 13:03Z analizy przeprowadzonej za pomocą specjalnej aplikacji App of Cards wynika, że w internecie najwięcej wzmianek, reakcji i aktywności wygenerował kandydat PiS Andrzej Duda. Czytaj dalej »
Polska metoda produkcji grafenu - z ochroną patentową w USA
2015-05-13, 08:50Metoda wytwarzania grafenu, opracowana w Instytucie Technologii Materiałów Elektronicznych (ITME) w Warszawie, zyskała ochronę patentową w Stanach Zjednoczonych. Instytut wciąż czeka na analogiczną decyzję dotyczącą obszaru UE. Czytaj dalej »
Wynalazki z UMK nagrodzone
2015-05-11, 16:48Dwa wynalazki z UMK zdobyły złote medale w konkursie organizowanym przez Stowarzyszenie Francuskich Wynalazców i Producentów na 114-tych Targach Wynalazczości w Paryżu. Czytaj dalej »
W tym tygodniu kulminacja polskich obchodów dni społeczeństwa informacyjnego
2015-05-11, 09:36Kształtowanie umiejętności cyfrowych i zainteresowań informatycznych u młodzieży to główny cel polskich obchodów Światowych Dni Społeczeństwa Informacyjnego. Ich kulminacja przypada w tym tygodniu. Z tej okazji do Warszawy przyjedzie… Czytaj dalej »